Bakuchiol Happy Mask on lehtmask, mis tasakaalustab nahka ja soodustab siledamat ja säravamat jumet. Infundeeritud bakuchioliga, retinooli õrnema alternatiiviga, mis on tõestatult vähendanud hüperpigmentatsiooni ja kortse ning parandab naha tekstuuri ja elastsust ilma naha ärritamata. Lehtmask sisaldab ka CICA kompleksi, mis rahustab ja parandab nahka, pakkudes sellele antioksüdantide omadusi. Lehtmaski pehme, läbipaistev materjal on innovatiivne kiud, mis on valmistatud lüotselli ja Aasia vesiroosi ekstrakti kombinatsioonist. Mitmete taimsete ekstraktide ja naha barjääri tugevdava ning heledust lisava niatsiinamiidi abil jätab lehtmask naha tasakaalustatuks ja rahustatuks ning annab sellele naturaalse sära.
Kasutamine
Puhasta nägu ja kanna peale toonik. Ava pakend ja voldi mask ettevaatlikult lahti. Aseta mask näole ja jäta see 20 minutiks peale. Masseeri õrnalt ülejäänud essents nahka. Järgne oma tavalisele nahahooldusrutiinile vastavalt soovile.
Water/Aqua, Glycerin, Butylene Glycol, Dipropylene Glycol, Betaine, Xanthan Gum, Hydroxyacetophenone, 1,2-Hexanediol, Carbomer, Caprylyl Glycol, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Niacinamide, Polyglyceryl-10 Isostearate, Illicium Verum (Anise) Fruit Extract, Polyglyceryl-10 Oleate, Sodium Hydroxide, Fragrance/Parfum, Sodium Gluconate, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Ascophyllum Nodosum Extract, Bakuchiol, Dipotassium Glycyrrhizate, Sodium Hyaluronate, Epilobium Angustifolium Flower/Leaf/Stem Extract, Enantia Chlorantha Bark Extract, Centella Asiatica Extract, Oleanolic Acid, Asiaticoside, Asiatic acid, Madecassic Acid Toodete koostisosade eest vastutab tootja. Võimalike muudatuste tõttu soovitame kontrollida toote koostisosade loendit otse toote pakendilt.
Arvustused
Eemalda filtridTooteülevaateid veel ei ole.